課號 | 課程名稱 | 階段 | 學分 | 時數 | 修 | 班級 | 教師 | 日 | 一 | 二 | 三 | 四 | 五 | 六 | 教室 | 人 | 撤 | 授課 語言 | 教學大綱 與進度表 | 備註 | 隨班 附讀 | 實驗 實習 |
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325097 | 半導體元件製造技術 | 1 | 3.0 | 3 | ★ | 特殊學生專班課程 | 李文亞 | 6 7 8 | 先鋒403 (e) | 16 | 0 | 英語 | 查詢 | 先鋒,「連結新南向菁英培育專班」計畫 | ||||||||
323394 | 奈米材料與科技 | 1 | 3.0 | 3 | ★ | 化工四甲 化工四乙 化工四丙 化工三甲 化工三乙 化工三丙 | 李文亞 | 5 6 7 | 先鋒404 (e) | 46 | 1 | 查詢 | 請安排先鋒大樓教室;網路預選限25人(大學部);大三四化 | |||||||||
322073 | 半導體製程 | 1 | 3.0 | 3 | ★ | 材資四甲 材資三甲 | 邱德威 | 3 4 | 7 | 四教304(e) 六教527(e) | 59 | 1 | 查詢 | 材資三四甲合開,請排70人大教室◎ | ||||||||
319827 | 奈米材料導論 | 1 | 3.0 | 3 | ★ | 材資二甲 | 陳柏均 | 7 8 | 7 | 三教403(e) | 72 | 1 | 英語 | 查詢 | 排70人大教室◎ | |||||||
320400 | 半導體分子材料與製程檢測 | 1 | 2.0 | 2 | ★ | 分子一 工程一 | 李宜桓 林群哲 | 3 4 | 先鋒501 (e) | 95 | 3 | 查詢 查詢 | 分子一和工程一合開 | |||||||||
324331 | 半導體元件概論 | 1 | 3.0 | 3 | ★ | 電子四甲 電子四乙 電子三甲 電子三乙 | 胡心卉 | 2 3 4 | 先鋒504 (e) | 63 | 3 | 查詢 | 電子三四甲乙合開 | |||||||||
324281 | 半導體製造技術 | 1 | 3.0 | 3 | ★ | 電子所 | 胡心卉 | 2 3 4 | 綜科502 | 48 | 0 | 查詢 | ||||||||||
323628 | 積體電路製程先進技術與設備 | 1 | 3.0 | 3 | ★ | 機電所 製科所 | 曾釋鋒 | 5 6 7 | 先鋒404 (e) | 81 | 0 | 查詢 | 機電所和製科所合開,教務處安排教室,限40人 | |||||||||
324547 | 半導體元件物理含實習 | 1 | 3.0 | 3 | ★ | 光電四 | 陳隆建 | 2 3 4 | 億光0835 | 32 | 1 | 查詢 | ||||||||||
323964 | 積體電路製程特論 | 1 | 3.0 | 3 | ★ | 材料所 能源光電外國學生專班 | 徐曉萱 | 3 4 5 | 六教626(e) | 38 | 0 | 英語 | 查詢 | 材料所和EOMP合開 | ||||||||
323433 | 先進材料化學特論 | 1 | 3.0 | 3 | ★ | 工程學院(大) | 李文亞 李紹先 林律吟 郭志宇 陳秀慧 陳柏均 楊詠荍 鍾仁傑 | N 5 6 | 三教209(e) | 62 | 0 | 查詢 查詢 查詢 查詢 查詢 查詢 查詢 查詢 | 多位教師合授 | |||||||||
331650 | 半導體機台基礎 | 1 | 2.0 | 2 | ★ | 機電學院(大) | 曾百由 | 5 | 2 | 查詢 | ||||||||||||
331651 | 半導體設備元件基礎 | 1 | 2.0 | 2 | ★ | 機電學院(大) | 林懷恩 | 7 | 0 | 查詢 | ||||||||||||
331652 | 半導體機台基礎 | 1 | 2.0 | 2 | ★ | 機電學院(研) | 曾百由 | 9 | 0 | 查詢 | 與台積電合作課程 | |||||||||||
331653 | 半導體設備元件基礎 | 1 | 2.0 | 2 | ★ | 機電學院(研) | 林懷恩 | 13 | 2 | 查詢 | 與台積電合作課程 |
各節次上課時間如下:
1: 08:10 - 09:00 | 2: 09:10 - 10:00 | 3: 10:10 - 11:00 | 4: 11:10 - 12:00 | N: 12:10 - 13:00 |
5: 13:10 - 14:00 | 6: 14:10 - 15:00 | 7: 15:10 - 16:00 | 8: 16:10 - 17:00 | 9: 17:10 - 18:00 |
A: 18:30 - 19:20 | B: 19:20 - 20:10 | C: 20:20 - 21:10 | D: 21:10 - 22:00 |
備註: