| 教室簡稱 | 教室全名 | 容量(座位數) | 日間使用狀況 | 夜間使用狀況 | 週末使用狀況 | |||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 節數 | 使用率(節數/45) | 節數 | 使用率(節數/20) | 節數 | 使用率(節數/22) | |||
| 三教409(e) | 第三教學大樓409室 | 65 | 30 | 66.67% | 3 | 15.00% | 15 | 68.18% |
| 日 | 一 | 二 | 三 | 四 | 五 | 六 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 第 1 節 08:10 - 09:00 |
(100349) [30人] 半導體元件製造技術 進二化四 |
(92990) [20人] 資源工程導論 二材三 |
(92988) [25人] 顯微組織學 二材三 | ||||
| 第 2 節 09:10 - 10:00 |
(100349) [30人] 半導體元件製造技術 進二化四 |
(92990) [20人] 資源工程導論 二材三 |
(92988) [25人] 顯微組織學 二材三 |
(93004) [19人] 陶瓷製程 二材三 |
(92987) [42人] 工程數學 二材三 | ||
| 第 3 節 10:10 - 11:00 |
(100349) [30人] 半導體元件製造技術 進二化四 |
(93000) [17人] 金屬熱處理 二材三 |
(93004) [19人] 陶瓷製程 二材三 |
(92987) [42人] 工程數學 二材三 | |||
| 第 4 節 11:10 - 12:00 |
(99684) [35人] 輸送現象(一) 進二化四 |
(93000) [17人] 金屬熱處理 二材三 |
(93000) [17人] 金屬熱處理 二材三 |
(92978) [6人] 陶瓷製程 四材四乙 二材四 | |||
| 第 N 節 12:10 - 13:00 | |||||||
| 第 5 節 13:10 - 14:00 |
(99684) [35人] 輸送現象(一) 進二化四 |
(92986) [53人] 物理化學 二材三 |
(92985) [44人] 進階英文與應用練習 二材三 |
(93002) [20人] 粉末冶金 二材三 |
(92978) [6人] 陶瓷製程 四材四乙 二材四 |
(99698) [31人] 高分子特性及應用 進二化四 | |
| 第 6 節 14:10 - 15:00 |
(99684) [35人] 輸送現象(一) 進二化四 |
(92986) [53人] 物理化學 二材三 |
(92985) [44人] 進階英文與應用練習 二材三 |
(93002) [20人] 粉末冶金 二材三 |
(92978) [6人] 陶瓷製程 四材四乙 二材四 |
(99698) [31人] 高分子特性及應用 進二化四 | |
| 第 7 節 15:10 - 16:00 |
(100348) [31人] 電化學 進二化四 |
(93007) [40人] 奈米材料導論 二材三 |
(92989) [37人] 材料科學原理 二材三 |
(100137) [29人] 精密陶瓷概論 四材三乙 |
(100479) [11人] 晶體合成概論 四材四乙 二材四 |
(99698) [31人] 高分子特性及應用 進二化四 | |
| 第 8 節 16:10 - 17:00 |
(100348) [31人] 電化學 進二化四 |
(92999) [20人] 雷射加工 二材三 |
(92989) [37人] 材料科學原理 二材三 |
(92996) [0人] 結晶學 二材三 |
(93636) [15人] 大地工程 四材四乙 | ||
| 第 9 節 17:10 - 18:00 |
(100348) [31人] 電化學 進二化四 |
(92999) [20人] 雷射加工 二材三 |
(92996) [0人] 結晶學 二材三 | ||||
| 第 A 節 18:30 - 19:20 |
(93006) [58人] 奈米科技概論 二材三 | ||||||
| 第 B 節 19:20 - 20:10 |
(93006) [58人] 奈米科技概論 二材三 |
(99685) [32人] 化學工程實習 進二化四 | |||||
| 第 C 節 20:20 - 21:10 |
(93006) [58人] 奈米科技概論 二材三 |
(99685) [32人] 化學工程實習 進二化四 | |||||
| 第 D 節 21:10 - 22:00 |
(99685) [32人] 化學工程實習 進二化四 |
備註：