教室簡稱 | 教室全名 | 容量(座位數) | 日間使用狀況 | 夜間使用狀況 | 週末使用狀況 | |||
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節數 | 使用率(節數/45) | 節數 | 使用率(節數/20) | 節數 | 使用率(節數/22) | |||
五教302 | 第五教學大樓302室 | 36 | 80.00% |
日 | 一 | 二 | 三 | 四 | 五 | 六 | |
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第 1 節 08:10 - 09:00 |
(70155) [57人] 物理 四化一甲 |
(70077) [42人] 反應工程 四化三甲 |
(70077) [42人] 反應工程 四化三甲 |
(70152) [47人] 英文 四化一甲 |
(70159) [42人] 化工概論 四化一甲 | ||
第 2 節 09:10 - 10:00 |
(70155) [57人] 物理 四化一甲 |
(70077) [42人] 反應工程 四化三甲 |
(70152) [47人] 英文 四化一甲 |
(70159) [42人] 化工概論 四化一甲 | |||
第 3 節 10:10 - 11:00 |
(70155) [57人] 物理 四化一甲 |
(73393) [12人] 高分子特性及應用 四化三甲 四化三乙 |
(71734) [43人] 微積分 四化一甲 | ||||
第 4 節 11:10 - 12:00 |
(70157) [54人] 化學 四化一甲 |
(73393) [12人] 高分子特性及應用 四化三甲 四化三乙 |
(71734) [43人] 微積分 四化一甲 | ||||
第 N 節 12:10 - 13:00 | |||||||
第 5 節 13:10 - 14:00 |
(70151) [42人] 國文 四化一甲 |
(70086) [7人] 化學工業程序 四化三甲 |
(73391) [15人] 半導體元件製造技術 四化三甲 四化三乙 | ||||
第 6 節 14:10 - 15:00 |
(70159) [42人] 化工概論 四化一甲 |
(70151) [42人] 國文 四化一甲 |
(70086) [7人] 化學工業程序 四化三甲 |
(73391) [15人] 半導體元件製造技術 四化三甲 四化三乙 | |||
第 7 節 15:10 - 16:00 |
(70150) [43人] 憲法與立國精神 四化一甲 |
(75040) [21人] 生醫材料 四化三甲 四化三乙 |
(70149) [42人] 軍訓(二) 四化一甲 |
(70090) [25人] 特用化學品 四化三甲 |
(70084) [0人] 生物化學工程 四化三甲 | ||
第 8 節 16:10 - 17:00 |
(70150) [43人] 憲法與立國精神 四化一甲 |
(75040) [21人] 生醫材料 四化三甲 四化三乙 |
(70149) [42人] 軍訓(二) 四化一甲 |
(70090) [25人] 特用化學品 四化三甲 |
(70084) [0人] 生物化學工程 四化三甲 | ||
第 9 節 17:10 - 18:00 |
(70153) [51人] 英語聽講練習 四化一甲 |
(75040) [21人] 生醫材料 四化三甲 四化三乙 |
(71734) [43人] 微積分 四化一甲 |
(70084) [0人] 生物化學工程 四化三甲 | |||
第 A 節 18:30 - 19:20 | |||||||
第 B 節 19:20 - 20:10 | |||||||
第 C 節 20:20 - 21:10 | |||||||
第 D 節 21:10 - 22:00 |
備註: