教室簡稱 | 教室全名 | 容量(座位數) | 日間使用狀況 | 夜間使用狀況 | 週末使用狀況 | |||
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節數 | 使用率(節數/45) | 節數 | 使用率(節數/20) | 節數 | 使用率(節數/22) | |||
五教101 | 第五教學大樓101室 | 30 | 66.67% |
日 | 一 | 二 | 三 | 四 | 五 | 六 | |
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第 1 節 08:10 - 09:00 |
(62197) [51人] 反應工程 四化三甲 | ||||||
第 2 節 09:10 - 10:00 |
(62197) [51人] 反應工程 四化三甲 |
(62220) [0人] 表面化學 四化三甲 四化三乙 |
(65338) [9人] 污染防治 四化三甲 四化三乙 |
(65336) [23人] 半導體元件製造技術 四化三甲 四化三乙 | |||
第 3 節 10:10 - 11:00 |
(62198) [44人] 化工熱力學 四化三甲 |
(65338) [9人] 污染防治 四化三甲 四化三乙 |
(62206) [54人] 化學工業程序 四化三甲 四化三乙 | ||||
第 4 節 11:10 - 12:00 |
(62198) [44人] 化工熱力學 四化三甲 |
(62197) [51人] 反應工程 四化三甲 |
(65337) [14人] 生物技術 四化三甲 | ||||
第 N 節 12:10 - 13:00 | |||||||
第 5 節 13:10 - 14:00 |
(65336) [23人] 半導體元件製造技術 四化三甲 四化三乙 |
(62220) [0人] 表面化學 四化三甲 四化三乙 |
(62204) [16人] 生物化學工程 四化三甲 |
(62206) [54人] 化學工業程序 四化三甲 四化三乙 |
(65339) [22人] 高分子物性與加工 四化三甲 四化三乙 | ||
第 6 節 14:10 - 15:00 |
(65336) [23人] 半導體元件製造技術 四化三甲 四化三乙 |
(62220) [0人] 表面化學 四化三甲 四化三乙 |
(62204) [16人] 生物化學工程 四化三甲 |
(62206) [54人] 化學工業程序 四化三甲 四化三乙 |
(62227) [44人] 特用化學品 四化三乙 | ||
第 7 節 15:10 - 16:00 |
(65338) [9人] 污染防治 四化三甲 四化三乙 |
(62227) [44人] 特用化學品 四化三乙 |
(62204) [16人] 生物化學工程 四化三甲 |
(62210) [17人] 特用化學品 四化三甲 | |||
第 8 節 16:10 - 17:00 |
(65339) [22人] 高分子物性與加工 四化三甲 四化三乙 |
(62227) [44人] 特用化學品 四化三乙 |
(62210) [17人] 特用化學品 四化三甲 | ||||
第 9 節 17:10 - 18:00 |
(65339) [22人] 高分子物性與加工 四化三甲 四化三乙 |
(62210) [17人] 特用化學品 四化三甲 | |||||
第 A 節 18:30 - 19:20 | |||||||
第 B 節 19:20 - 20:10 | |||||||
第 C 節 20:20 - 21:10 | |||||||
第 D 節 21:10 - 22:00 |
備註: