教室簡稱 | 教室全名 | 容量(座位數) | 日間使用狀況 | 夜間使用狀況 | 週末使用狀況 | |||
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節數 | 使用率(節數/45) | 節數 | 使用率(節數/20) | 節數 | 使用率(節數/22) | |||
三教108 | 第三教學大樓108室 | 23 | 51.11% | 17 | 77.27% |
日 | 一 | 二 | 三 | 四 | 五 | 六 | |
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第 1 節 08:10 - 09:00 |
(64328) [42人] 人生哲學 進通識課程 |
(59297) [50人] 材料科學與工程 二機三乙 |
(59303) [31人] 工廠管理 二機三乙 | ||||
第 2 節 09:10 - 10:00 |
(64328) [42人] 人生哲學 進通識課程 |
(59297) [50人] 材料科學與工程 二機三乙 |
(59301) [21人] 應用電子學 二機三乙 | ||||
第 3 節 10:10 - 11:00 |
(64410) [47人] 輸送現象 進二化四 |
(59297) [50人] 材料科學與工程 二機三乙 |
(59301) [21人] 應用電子學 二機三乙 | ||||
第 4 節 11:10 - 12:00 |
(64410) [47人] 輸送現象 進二化四 |
(59303) [31人] 工廠管理 二機三乙 |
(59301) [21人] 應用電子學 二機三乙 | ||||
第 N 節 12:10 - 13:00 | |||||||
第 5 節 13:10 - 14:00 |
(64410) [47人] 輸送現象 進二化四 |
(59303) [31人] 工廠管理 二機三乙 |
(59295) [40人] 機械設計 二機三乙 |
(59299) [41人] 工程數學(一) 二機三乙 |
(64640) [48人] 半導體元件製造技術 進二化四 | ||
第 6 節 14:10 - 15:00 |
(64642) [47人] 電化學 進二化四 |
(59298) [45人] 動力學 二機三乙 |
(59295) [40人] 機械設計 二機三乙 |
(59299) [41人] 工程數學(一) 二機三乙 |
(64640) [48人] 半導體元件製造技術 進二化四 | ||
第 7 節 15:10 - 16:00 |
(64642) [47人] 電化學 進二化四 |
(59298) [45人] 動力學 二機三乙 |
(59295) [40人] 機械設計 二機三乙 |
(59299) [41人] 工程數學(一) 二機三乙 |
(64992) [49人] 薄膜分離程序 進二化四 | ||
第 8 節 16:10 - 17:00 |
(64642) [47人] 電化學 進二化四 |
(59298) [45人] 動力學 二機三乙 |
(59293) [36人] 進階英文與應用練習 二機三乙 |
(59294) [43人] 熱力學 二機三乙 |
(64992) [49人] 薄膜分離程序 進二化四 | ||
第 9 節 17:10 - 18:00 |
(64640) [48人] 半導體元件製造技術 進二化四 |
(59294) [43人] 熱力學 二機三乙 |
(59293) [36人] 進階英文與應用練習 二機三乙 |
(59294) [43人] 熱力學 二機三乙 |
(64992) [49人] 薄膜分離程序 進二化四 | ||
第 A 節 18:30 - 19:20 | |||||||
第 B 節 19:20 - 20:10 |
(64816) [48人] 高分子特性及應用 進二化四 | ||||||
第 C 節 20:20 - 21:10 |
(64816) [48人] 高分子特性及應用 進二化四 | ||||||
第 D 節 21:10 - 22:00 |
(64816) [48人] 高分子特性及應用 進二化四 |
備註: