教學大綱與進度

課程基本資料：

學年期	課號	課程名稱	階段	學分	時數	修	教師	班級	人	撤	備註
113-2	345739	黃光微影製程材料及缺陷控制技術	1	2.0	2	★	張慶裕	半導體學位學程	11	2	半導體碩班

教學大綱與進度：

教師姓名	張慶裕
Email	mailtocy@yahoo.com.tw
最後更新時間	2024-12-18 00:26:45
課程大綱	半導體黃光微影技術是先進半導體製程的關鍵之一。如何優化曝光的光學系統和成像光阻的化學系統，以及控制顯影成像後的不良粒子缺陷，是決定先進半導體成敗與良率的關鍵。本課程涵蓋黃光微影技術的基本原理、步驟和光阻材料的組成，讓學員獲得整體性概念，了解黃光微影技術在晶圓製造中的角色及其對良率的影響。通過實際案例的介紹與演練，學員能更清楚地掌握專業背景知識並學以致用，培養半導體產業所需的技能，提升未來就業基礎與創新能力。 課程將分為三個階段進行。第一階段介紹微影製程的基本原理及光阻材料，幫助學員累積研發與解決問題的專業知識。第二階段通過應用和實戰案例解析，使學員了解產業運作中的實際知識與技巧，並培養從微觀角度理解與思考問題的能力，提升自學效率與興趣。第三階段以模擬演練的方式，協助學員建立問題解決的技巧，增強他們的能力與信心。 Semiconductor lithography technology is the most crucial step in advanced semiconductor processes. Optimizing the optical system in exposure parameters and the chemical system in resist formulation design, as well as controlling defects in resist and the development step, are crucial for the success of advanced semiconductor production. This course covers the fundamental principles, steps, and composition of lithography technology, providing participants with a comprehensive understanding of the role of lithography in wafer manufacturing. Through practical case studies and exercises, participants can gain a clearer grasp of professional background knowledge and apply it effectively, cultivating the skills required in the semiconductor industry and enhancing future employment foundations and innovation capabilities.
課程進度	周次 單元主題 1 黃光微影製程簡介 2 光學光罩及曝光設備簡介 3 微影塗佈及顯影設備簡介 4-6 半導體光阻材料 7. 半導體微影不良粒子控制技術 8-16 研究報告及實務應用解析
評量方式與標準	1. 研究報告 50% 2. 學習測驗 30% 3. 上課表現 20%
使用教材、參考書目或其他	【遵守智慧財產權觀念，請使用正版教科書，不得使用非法影印教科書】 使用外文原文書：否 1. 教師準備之講義 2. 專業期刊
課程諮詢管道	教師信箱:mailtocy@yahoo.com.tw
課程對應SDGs指標	SDG4：優質教育（Quality Education） SDG8：尊嚴就業與經濟發展（Decent Work and Economic Growth） SDG9：產業創新與基礎設施（Industry, Innovation and Infrastructure） SDG12：負責任的消費與生產（Responsible Consumption and Production） SDG17：夥伴關係（Partnerships for the Goals）
課程是否導入AI
備註