教學大綱與進度

課程基本資料：

學年期	課號	課程名稱	階段	學分	時數	修	教師	班級	人	撤	備註
99-2	143092	半導體元件製造技術	1	3.0	3	★	張勤煜	四化三甲 四化三乙 四化三丙	41	0	限60人，四化三甲乙丙合開

教學大綱與進度：

教師姓名	張勤煜
Email	cyc@mail.nems.ntu.edu.tw
最後更新時間	2011-06-02 18:19:13
課程大綱	本課程之目的在於介紹一些廣泛、基本及實際的微電子製造程序（其中最主要者為積體電路之製造程序）。首先說明製造方法上之三個 主要部分：擴散（diffusion）、平版照相術（lithography）及薄膜沉積（thin-film deposition）然後再介紹這些方法如何應用在各種元件所需之物理特性及元件設計有關之訊息後者則需要了解各種製造策略之目的及限制時再隨時給予介紹。
課程進度	week1~2 : Introduction week3~4 : Introduction to IC fabricaiton week5~6 : Semiconductor Basic week7~8 : Wafer Manufacuring Week 8 : MidExam week10~11 : Thermal Process week12~13 : Photolithography week14~15 : Plasma Process week16~17 : visit NTU NEMS Wee18 : Fianl Exam
評量方式與標準	期中考 : 40% 期末考 : 40% 平時及作業 : 20%
使用教材、參考書目或其他	【遵守智慧財產權觀念，請使用正版教科書，不得使用非法影印教科書】 使用外文原文書：　 Semiconductor Manufacturing Technology by Quirk 半導體製造技術 by 劉文超 半導體製程設備 by 張勁燕 VLSI製程技術 by 溫武義 半導體製造技術與管理 by 簡禎富
課程諮詢管道
課程對應SDGs指標
備註