教學大綱與進度

課程基本資料：

學年期	課號	課程名稱	階段	學分	時數	修	教師	班級	人	撤	備註
113-1	338534	鍍膜工程	1	3.0	3	★	林懷恩	機電所 製科所 機械自動化外生專班 智慧鐵道學位學程 半導體學位學程	64	0	機電.製科.半導體.鐵道.機械自動化外生班合開,/限40人

教學大綱與進度：

教師姓名	林懷恩　教師諮商時間(Office Hours)
Email	linhe@ntut.edu.tw
最後更新時間	2024-05-22 19:13:59
課程大綱	鍍膜製程為近代製造業廣泛利用之表面處理技術，常用於刀具、模具、光學元件、感測器及半導體裝置等。本課程提供物理、化學法鍍膜技術之原理、設備之介紹。並講述膜成核、生長理論與近代薄膜科技於能源、光電、生醫與環境領域之應用。 Film deposition process, a surface treatment technology, has been widely used in modern manufacturing. It is commonly applied in the development of cutters, molds, optical component, sensor and semiconductor devices, etc. This course provides an introduction regarding the basic principle and apparatus of the coating technology (physical and chemical routes). Besides, the film nucleation, growth theory and their applications in energy, optoelectronic, biomedical and environmental fields are described as well.
課程進度	第1週 09/09 課程內容簡介 Introduction of the subject 第2週 09/16 材料科學回顧 Materials Science Review 第3週 09/23 物理氣相沉積 Physical vapor deposition (Principle & apparatus of sputtering & thermal evaporative deposition) 第4週 09/30 物理氣相沉積 Physical vapor deposition (Principle & apparatus of sputtering & thermal evaporative deposition) 第5週 10/07 物理氣相沉積 Physical vapor deposition (Principle & apparatus of sputtering & thermal evaporative deposition) 第6週 10/14 化學氣相沉積 Chemical vapor deposition (Principle & apparatus) 第7週 10/21 化學氣相沉積 Chemical vapor deposition (Principle & apparatus) 第8週 10/28 化學氣相沉積 Chemical vapor deposition (Principle & apparatus) 第9週 11/04 期中考Middle examination 第10週 11/11 電鍍、陽極處理(Electroplating & anodizing treatment) 第11週 11/18 電鍍、陽極處理(Electroplating & anodizing treatment) 第12週 11/25 無電鍍(Electroless deposition) 第13週 12/02 溼式化學法製程 Wet-chemical process (Chemical bath deposition & electroless deposition) 第14週 12/09 薄膜特性 (機械性質、光電特性) Thin film characteristic (Mechanical properties & optoelectronic properties) 第15週 12/16 薄膜分析 (材料性質) Thin film analyses (Materials properties) 第16週 12/23 期末報告 (Final report) 第17週 12/30 期末報告 (Final report) 第18週 01/06 Final exam 期末考
評量方式與標準	1. Participation 出席成績 (10%) 2. Presentation發表 (30%) 3. Middle examination期中考 (30%) 4. Final examination 期末考 (30%)
使用教材、參考書目或其他	【遵守智慧財產權觀念，請使用正版教科書，不得使用非法影印教科書】 使用外文原文書：是 1. Handbook of Thin Film Deposition Processes and Techniques, K. Seshan, William Andrew Publishing (2002). 2. The Materials Science of Thin Films, M. Ohring, Academic Press (1991)
課程諮詢管道	同學如對課程有問題可於課程中提出，或是在下課時間詢問。 此外也可以下列方式聯絡老師諮詢： 1. 以電子郵件聯絡老師，老師信箱linhe@ntut.edu.tw Please feel free to contact me if you have any question! Contact information: 1. Email: linhe@ntut.edu.tw
課程對應SDGs指標	SDG9：產業創新與基礎設施（Industry, Innovation and Infrastructure）
備註