課程編碼 Course Code | 中文課程名稱 Course Name (Chinese) | 英文課程名稱 Course Name (English) | 總學分數 Credits | 總時數 Hours |
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8605003 | 積體電路製造技術 | Fabrication Technologies of Integrated Circuits | 3.0 | 3 |
中文概述 Chinese Description | 1.MOS元件工作模式及MOSFET原理 2.微小MOSFET的額外考慮 3.矽晶圓的生長 4.擴 散 5.離子植入 6.氧化處理 7.氧化處理 8.CVD技術 9.微影術 10.蒸鍍與濺鍍 11.光罩製作 12.CMOS IC製程 | |||
英文概述 English Description | In this lecture, the following topics will be introduced: 1. Operating modes and theory of MOS devices. 2. Small-geometry effects. 3. Analysis for CMOS circuits. 4. Wafer growth. 5. Diffusion. 6. Ion implantation. 7. Oxidation. 8. CVD techniques. 9. Lithography. 10. Sputtering and evaporation. 11. Photo masking. 12. CMOS IC fabrication processing. |
備註: