課 程 概 述
Course Description

課程編碼
Course Code
中文課程名稱
Course Name (Chinese)
英文課程名稱
Course Name (English)
總學分數
Credits
總時數
Hours
8605003 積體電路製造技術 Fabrication Technologies of Integrated Circuits 3.0 3
中文概述
Chinese Description
1.MOS元件工作模式及MOSFET原理 2.微小MOSFET的額外考慮 3.矽晶圓的生長 4.擴 散 5.離子植入 6.氧化處理 7.氧化處理 8.CVD技術 9.微影術 10.蒸鍍與濺鍍 11.光罩製作 12.CMOS IC製程
英文概述
English Description
In this lecture, the following topics will be introduced: 1. Operating modes and theory of MOS devices. 2. Small-geometry effects. 3. Analysis for CMOS circuits. 4. Wafer growth. 5. Diffusion. 6. Ion implantation. 7. Oxidation. 8. CVD techniques. 9. Lithography. 10. Sputtering and evaporation. 11. Photo masking. 12. CMOS IC fabrication processing.

備註:

  1. 本資料係由本校各教學單位、教務處課務組、進修部教務組、進修學院教務組及計網中心所共同提供!
  2. 若您對課程有任何問題,請洽各開課系所。