教室簡稱 | 教室全名 | 容量(座位數) | 日間使用狀況 | 夜間使用狀況 | 週末使用狀況 | |||
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節數 | 使用率(節數/45) | 節數 | 使用率(節數/20) | 節數 | 使用率(節數/22) | |||
億光0935 | 光學設計電腦教室 | 20 | 29 | 64.44% |
日 | 一 | 二 | 三 | 四 | 五 | 六 | |
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第 1 節 08:10 - 09:00 | |||||||
第 2 節 09:10 - 10:00 |
(298652) [2人] 雷射工程 光電所 電資外生所 (302700) [15人] 雷射工程 光電四 光電三 光電二 電資外生二 |
(298682) [7人] 半導體製程技術導論 光電所 電資外生所 |
(298671) [8人] 奈米光學薄膜 光電所 | ||||
第 3 節 10:10 - 11:00 |
(298682) [7人] 半導體製程技術導論 光電所 電資外生所 |
(298671) [8人] 奈米光學薄膜 光電所 | |||||
第 4 節 11:10 - 12:00 |
(298682) [7人] 半導體製程技術導論 光電所 電資外生所 |
(298671) [8人] 奈米光學薄膜 光電所 | |||||
第 N 節 12:10 - 13:00 | |||||||
第 5 節 13:10 - 14:00 |
(302712) [3人] 光機電系統概論與實務製造 光電所 電資外生所 (302715) [16人] 光機電系統概論與實務製造 光電四 光電三 光電二 |
(302713) [6人] 雷射原理及應用 光電所 電資外生所 (302815) [1人] 雷射原理與應用 光電四 光電三 |
(298676) [12人] 繞射光學原理與應用含實習 光電所 |
(302758) [14人] 影像處理 光電所 (302793) [5人] 影像處理 光電四 光電三 | |||
第 6 節 14:10 - 15:00 |
(302712) [3人] 光機電系統概論與實務製造 光電所 電資外生所 (302715) [16人] 光機電系統概論與實務製造 光電四 光電三 光電二 |
(302713) [6人] 雷射原理及應用 光電所 電資外生所 (302815) [1人] 雷射原理與應用 光電四 光電三 |
(298676) [12人] 繞射光學原理與應用含實習 光電所 |
(302758) [14人] 影像處理 光電所 (302793) [5人] 影像處理 光電四 光電三 | |||
第 7 節 15:10 - 16:00 |
(302712) [3人] 光機電系統概論與實務製造 光電所 電資外生所 (302715) [16人] 光機電系統概論與實務製造 光電四 光電三 光電二 |
(302713) [6人] 雷射原理及應用 光電所 電資外生所 (302815) [1人] 雷射原理與應用 光電四 光電三 |
(298676) [12人] 繞射光學原理與應用含實習 光電所 |
(302758) [14人] 影像處理 光電所 (302793) [5人] 影像處理 光電四 光電三 | |||
第 8 節 16:10 - 17:00 | |||||||
第 9 節 17:10 - 18:00 | |||||||
第 A 節 18:30 - 19:20 | |||||||
第 B 節 19:20 - 20:10 | |||||||
第 C 節 20:20 - 21:10 | |||||||
第 D 節 21:10 - 22:00 |
備註: