教室簡稱 | 教室全名 | 容量(座位數) | 日間使用狀況 | 夜間使用狀況 | 週末使用狀況 | |||
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節數 | 使用率(節數/45) | 節數 | 使用率(節數/20) | 節數 | 使用率(節數/22) | |||
三教408(e) | 第三教學大樓408室 | 50 | 36 | 80.00% | 7 | 35.00% | 5 | 22.73% |
日 | 一 | 二 | 三 | 四 | 五 | 六 | |
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第 1 節 08:10 - 09:00 |
(262330) [50人] 光電工程概論 (一) 光電二 |
(262329) [51人] 幾何光學 光電二 電資二 | |||||
第 2 節 09:10 - 10:00 |
(262330) [50人] 光電工程概論 (一) 光電二 |
(261404) [45人] 訊號與系統 電機三甲 |
(262329) [51人] 幾何光學 光電二 電資二 |
(262329) [51人] 幾何光學 光電二 電資二 | |||
第 3 節 10:10 - 11:00 |
(266586) [44人] 基礎英文閱讀與字彙(一) 大二多元英文(一) |
(262332) [51人] 電路學(一) 光電二 |
(262332) [51人] 電路學(一) 光電二 |
(266959) [58人] 創業與財務概論 博雅選修(五) | |||
第 4 節 11:10 - 12:00 |
(266586) [44人] 基礎英文閱讀與字彙(一) 大二多元英文(一) |
(262332) [51人] 電路學(一) 光電二 |
(266959) [58人] 創業與財務概論 博雅選修(五) | ||||
第 N 節 12:10 - 13:00 |
(266531) [13人] 就業達人講座-職場自我行銷 光電所 (266532) [12人] 就業達人講座-職場自我行銷 光電四 光電三 | ||||||
第 5 節 13:10 - 14:00 |
(266586) [44人] 基礎英文閱讀與字彙(一) 大二多元英文(一) |
(264148) [37人] 電子顯微鏡學 材料所 |
(265644) [45人] 英文閱讀與聽講練習 電機一丁 |
(265091) [28人] 英文書報寫作 職能源所 | |||
第 6 節 14:10 - 15:00 |
(263209) [39人] 高等數位影像處理 電機所 |
(262331) [54人] 微分方程 光電二 |
(264148) [37人] 電子顯微鏡學 材料所 |
(266372) [1人] 半導體薄膜特性與製程 光電四 (266376) [15人] 半導體薄膜特性與製程 光電所 電資外生所 |
(265091) [28人] 英文書報寫作 職能源所 | ||
第 7 節 15:10 - 16:00 |
(263209) [39人] 高等數位影像處理 電機所 |
(262331) [54人] 微分方程 光電二 |
(264148) [37人] 電子顯微鏡學 材料所 |
(266372) [1人] 半導體薄膜特性與製程 光電四 (266376) [15人] 半導體薄膜特性與製程 光電所 電資外生所 |
(266543) [46人] 快速原型技術概論 攜四機四 訓四機四甲 | ||
第 8 節 16:10 - 17:00 |
(263209) [39人] 高等數位影像處理 電機所 |
(262330) [50人] 光電工程概論 (一) 光電二 |
(262331) [54人] 微分方程 光電二 |
(266372) [1人] 半導體薄膜特性與製程 光電四 (266376) [15人] 半導體薄膜特性與製程 光電所 電資外生所 |
(266543) [46人] 快速原型技術概論 攜四機四 訓四機四甲 | ||
第 9 節 17:10 - 18:00 |
(266543) [46人] 快速原型技術概論 攜四機四 訓四機四甲 | ||||||
第 A 節 18:30 - 19:20 |
(266235) [5人] 電子電路分析與設計 職電機所 |
(265752) [33人] 建築環境控制系統(一) 職二建四 |
(264873) [50人] 離散數學 訓四子二 | ||||
第 B 節 19:20 - 20:10 |
(266235) [5人] 電子電路分析與設計 職電機所 |
(265752) [33人] 建築環境控制系統(一) 職二建四 |
(264873) [50人] 離散數學 訓四子二 | ||||
第 C 節 20:20 - 21:10 |
(266235) [5人] 電子電路分析與設計 職電機所 |
(265761) [29人] 工程力學 職二建四 |
(264873) [50人] 離散數學 訓四子二 | ||||
第 D 節 21:10 - 22:00 |
(265761) [29人] 工程力學 職二建四 |
備註: