教學大綱與進度

課程基本資料：

學年期	課號	課程名稱	階段	學分	時數	修	教師	班級	人	撤	備註
102-2	189584	積體電路製造技術	1	3.0	3	★	余合興	四電三甲 四電三乙 四電三丙	12	3	修課人數限80人‧

教學大綱與進度：

教師姓名	余合興
Email	hhyee@ntut.edu.tw
最後更新時間	2014-02-19 09:13:14
課程大綱	積體電路製造技術課程是IC電路或佈局設計與半導體元件幾種課程的相關銜接課程,其中包括最新的CMOS IC 銅連線製程. 1.MOS元件工作模式及MOSFET原理； 2.微小MOSFET的額外考慮； 3.矽晶圓的生長； 4.CMOS IC製程； 5.光罩與微影術； 6.氧化處理； 7.擴散與離子植入； 8.化學蒸氣沉積技術； 9.蒸鍍與濺鍍。
課程進度	1.MOS元件工作模式及MOSFET原理 (1-3週)； 2.微小MOSFET的額外考慮(4-5週) 3.矽晶圓的生長； (6-7週) 4.CMOS IC製程； (8-12週) 5.IC製造技術； (13-17週) (Note) 第9週及18週考試
評量方式與標準	期中及平時考各佔 25% 期末考 40% 平時表現 10%
使用教材、參考書目或其他	【遵守智慧財產權觀念，請使用正版教科書，不得使用非法影印教科書】 使用外文原文書：　 A.教科書 1.半導體材料與元件(下) 余 合 興 著 四版 中央圖書 2.半導體製程技術導論 蕭 宏 著 二版 全 華 B.參考書 1.Semiconductor Manufacturing Technology, M. Quirk & J. Serda 滄 海
課程諮詢管道
備註