教學大綱與進度

課程基本資料：

學年期	課號	課程名稱	階段	學分	時數	修	教師	班級	人	撤	備註
101-2	172015	半導體元件製造技術	1	3.0	3	★	楊重光 蕭勝輝	四化三甲 四化三乙 四化三丙	33	2	四化三甲乙丙合開,限50人

教學大綱與進度：

教師姓名	楊重光
Email	ckyang@ntut.edu.tw
最後更新時間	2013-10-18 19:21:41
課程大綱	本課程之目的在於介紹一些廣泛、基本及實際的微電子製造程序（其中最主要者為積體電路之製造程序）。首先說明製造方法上之三個 主要部分：擴散（diffusion）、平版照相術（lithography）及薄膜沉積（thin-film deposition）然後再介紹這些方法如何應用在各種元件所需之物理特性及元件設計有關之訊息後者則需要了解各種製造策略之目的及限制時再隨時給予介紹。
課程進度	1-3 : 真空系統與氣體動力學 4-6 : 金屬化製程與微影蝕刻 7-9 : 化學氣相沉積 10-12 : 物理氣相沉積 13-15 : 離子佈植與CMOS製程方法 16-19 : 封裝製程與特性檢測
評量方式與標準	30%期中考 40%期末考 20%小考 10%作業
使用教材、參考書目或其他	【遵守智慧財產權觀念，請使用正版教科書，不得使用非法影印教科書】 使用外文原文書：
課程諮詢管道
備註